认出来，这是一组曝光台。
它又叫测量台，是承载硅晶圆的工作台，用来支撑和定位硅晶片，在光刻过程中，曝光台将硅片位置定位到投影光学系统下方，以便接受光刻胶的投影。
大屏幕上的画面随之转动，利用数字动画技术，展示一台更全面立体的烛龙 10800 EUV光刻机。
“由于场地限制，我们只拉来了一组曝光台，但它的结构同样复杂精密，由多个部件组成，譬如：
真空吸盘，在曝光之前，通过负压吸附硅片并使之牢固地固定在曝光台上，防止硅片在曝光过程中移动或摆动。
气氛控制系统，用来控制曝光台工作区的环境，确保光刻胶在最佳条件下进行曝光，包括过滤器和温度控制器等。
测量系统，用于检测硅片的位置和旋转，以及曝光后的质量和厚度等参数。通常由传感器和计算机接口组成，以提供实时反馈并调整曝光台的位置和参数……”
何婷波既是管理人员，又是专业的技术人员出身，谈到烛龙光刻机，自然是高谈阔论，满是自信之色。
一台光刻机的内部组件除了曝光台外，还有激光器、光束矫正器、能量控制器、掩膜台和物镜等十几种大型零配件，如果让她一一解读，这场发布会估计要开个两天两夜。
因此，何婷波在介绍完曝光台的结构后，凝思片刻道：
“烛龙 10800 EUV光刻机采用13.5纳米波长的EUV光源，相比传统的深紫外光刻技术，具备更高的光学分辨率和更低的纹影效应，这也是它能支持7纳米和5纳米芯片生产的基础。
首先，EUV光源的功率达到了55瓦，可提供强大稳定的光源，保证良好的曝光效果和超高的生产能力。
其次，具备每小时160片晶圆的生产能力，能满足高强度、大规模的芯片生产需求。
再次，精确的光学成像系统，能够准确地将芯片设计图案投射到硅晶圆上，拥有高分辨率和低畸变的优异特点，极大降低了生产不良率。
最后，先进的智能控制系统，能够实时监测和调整光刻过程中的关键参数，确保稳定的生产效率，才能获得品质一致的芯片产品。”
何婷波说到这里时，直接切换投屏画面，放出了烛龙 10800 EUV光刻机的定价系统。
国内版2亿华币，国际版7000万美刀！
一些人很快反应过来，这是在对标阿麦斯TWINSCAN NXT
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