好阴险啊，一直捂着不放，差不多一锤定音的时候就出来了。”
“……”
伴随着网络上的讨论发酵，等到热度达到峰值的时候，阿斯麦这边也进行了一个直播节目。
同时有着某积电、四星、英特尔等诸多半导体工程师，还有一些芯片设计厂、封装厂等等的专业人士。
站在一处厂房外，所有人脸上都是带着笑容。
直播镜头前，由阿斯麦的工程师率先开口进行了介绍
“恐怕很多人都没想到，我们会直接放弃原本成熟的DUV技术，直接从头开始的研发EUV光刻机。”
一边说，他们还围绕着厂房一边走。
“或许从最开始，就没人看好EUV光刻机，因为虽然理论上这能达到DUV光刻机的十倍分辨率，但实在是太难了，难度太大，需要突破的瓶颈太多，对技术的需求极高，克服的难点数不胜数。”
一边说着他还一边打开了手环，形成了一个三维的全息投影简单的介绍道
“大家都知道光刻机的本质就是曝光，DUV光刻机，我们还能找到对应的镜片让深紫外线通过，特别是后来安布雷拉的技术产出的新镜片，更是加强了这一点，安布雷拉自己的光刻机就是利用了这一点弯道超车，在不使用浸润法的情况下超过了我们的效率！”
阿斯麦没有去贬低安布雷拉，甚至还可以说在旁边吹嘘。
因为只有将安布雷拉的强大体现出来，才能说明他们更强！
这是一个强大的对手，但还是输了，输在了我们面前！
“但，这一点对EUV光刻机却是不行，我们使用的13.5nm波长极紫外线电离能力极强，没有镜头可以适合这种精度下让这种高能光束通过，所以唯一可以选择的办法，只有反射！”
一边说着，全息图像上也进行了改变，讲解了一下大概的原理。
就是不断利用一些镜片的反射来完成对极紫外线的汇聚。
总共要完成十几次的反射才能达到最后的曝光要求！
“这对于反射镜片的精度需求可以说是极高的，要感谢卡尔蔡司公司在这方面的付出。”
说完就对旁边卡尔蔡司的工程师做出了一个请的手势。
卡尔蔡司公司的工程师也顺势站了出来礼貌的说道
“我们同样利用到了安布雷拉的技术涂层，不过当然，就精度方面，我们还是有点自信的……”
随后，阿斯麦的
…。。